Ante la gran difusión que tuvo la comunicación del INTI de días pasados sobre nuestra evaluación de contaminantes en el río Uruguay y atento a que allí habíamos señalado que estaba pendiente contar con los valores de dioxina en sedimentos del río, complementamos los datos, con las primeras respuestas recibidas.
Muestras: agosto 2008
Laboratorio: RPC, Research & Productivity Council (Canadá)
Valor de referencia admisible de dioxinas en sedimentos: 0.85 milésimas de miligramo TEQ por tonelada , valor expresado como unidades de toxicidad equivalente (TEQ), basado en la OMS 1998. Este es el Nivel Guía Interino para sedimentos de agua dulce expresado en peso seco (ISQG) establecido por las “Guías de calidad de sedimento para la protección de la vida acuática de Canadá, 2005” (Canadian Sediment Quality Guidelines for the Protection of Aquatic Life, 2005)
Valores medidos:
Área Concepción del Uruguay: 0.06 milésimas de miligramo TEQ por tonelada
Área Ñandubayzal: 0.32 milésimas de miligramo TEQ por tonelada
Área Km. 81: 0.14 milésimas de miligramo TEQ por tonelada
Conclusiones:
De la evaluación de los valores hallados hasta el momento se infiere la presencia de mayores concentraciones de dioxinas y furanos en los sedimentos de las áreas identificadas como Ñandubayzal y Km. 81 (aguas abajo de la Pastera), respecto de los valores hallados en la zona de Concepción del Uruguay (aguas arriba de la Pastera).
. La concentración – en los tres casos – está muy por debajo del límite admisible.
. Estos valores, especialmente el segundo y tercero, deben ser cuidadosamente evaluados a lo largo del tiempo.
Este es un aspecto central del programa de trabajo del INTI en este tema.
A partir de ahora, el INTI continuará incorporando toda nueva medición a la tabla que está publicada en su hoja en Internet (www.inti.gob.ar) y no hará más informes públicos, a menos que registre una medición peligrosa para un parámetro o una tendencia en el tiempo que recomiende llamar la atención sobre ella.
Fuente - Prensa - Dirección de Comunicación del INTI |
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